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硅鋁合金靶

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硅鋁合金靶

Si-Al靶材，Si含量從50%～90%范圍內可調控。材料組織均勻性好、致密度高，晶粒細小。

技術參數：采用采用粉末冶金的方法制成，純度≥99.9%，相對密度大于99%，尺寸根據客戶要求定。

主要用途：用于玻璃鍍膜、太陽能電池鍍膜、觸摸屏鍍膜、LCD鍍膜及半導體行業，電子封裝等。
價格： ￥0.00
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